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水冷拋光機(jī)包括底座、拋光布、拋光蓋和蓋的基本組成部分。電機(jī)固定在底座上，固定盤(pán)與電機(jī)軸連接。拋光織物通過(guò)對(duì)研磨盤(pán)電機(jī)通過(guò)電源開(kāi)關(guān)的基礎(chǔ)開(kāi)始后緊固套圈，對(duì)樣品施加的壓力在拋光盤(pán)拋光旋轉(zhuǎn)可用手。拋光過(guò)程中通過(guò)固定在塑料排水管底板為把方盤(pán)旁邊的水冷拋光機(jī)和拋光液。拋光罩和蓋可以防止拋光織物上的灰塵和其它雜物，而不在使用時(shí)的效果。

水冷拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要盡量獲得最大的拋光速度，這樣就可以在拋光時(shí)盡可能去除損壞的層。同時(shí)，它也是為了使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察組織，即不會(huì)造成假組織。前者要求對(duì)使用較粗的磨料，保證較高的拋光速率去除研磨損傷層，但磨削損傷層深；后者需要使用最好的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光率低。解決這個(gè)問(wèn)題的最好辦法就是把拋光分為2個(gè)階段。

粗拋光是去除研磨損傷層，這一階段應(yīng)是與最大的拋光速率和鑄造形成毛坯表面損傷是次要的考慮因素，但也應(yīng)盡可能��；隨后通過(guò)拋光（或擲標(biāo)槍最后用力），其目的是去除表面損傷的粗磨，拋光損傷降低到最低限度。

水冷拋光機(jī)拋光，樣品磨面和拋光光盤(pán)應(yīng)絕對(duì)平行，均勻輕壓力盤(pán)上，注意防止試樣飛出的壓力過(guò)大，產(chǎn)生新的磨痕。應(yīng)該也使樣品旋轉(zhuǎn)和沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向移動(dòng)來(lái)回，為了避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中不斷添加粉末懸浮液，使的拋光織物保持一定的濕度。

濕度是過(guò)于籠統(tǒng)，削弱拋光磨痕和硬質(zhì)相的標(biāo)本顯示壓花，鋼中非金屬夾雜物在鋼和鑄鐵的石墨相“拖尾”現(xiàn)象；濕度是太小，由于摩擦熱會(huì)使樣品的溫度，降低潤(rùn)滑，研磨，使其失去光澤，甚至斑點(diǎn)，輕合金會(huì)傷害表面拋光。